所述模頭高度調(diào)節(jié)機構(gòu)包括兩個伺服電機，可以分別調(diào)節(jié)模頭兩端的高度；所述距離測量儀為兩個，分別設(shè)置在涂布模頭或涂布平臺的兩側(cè)。采用上述優(yōu)選的方案，可以對兩端高度分別調(diào)節(jié)，便于調(diào)整薄膜厚度的均勻度。所述距離測量儀設(shè)置在涂布平臺的兩側(cè)，倒置在所述涂布模頭的下方。采用上述優(yōu)選的方案，將距離測量儀倒置在涂布模頭下方，測量由下至上，可以節(jié)省空間。所述距離測量儀經(jīng)固定支架設(shè)置在所述涂布模頭的側(cè)方。采用上述優(yōu)選的方案，將距離測量儀固定在涂布模頭的側(cè)方，測量由上至下，該固定結(jié)構(gòu)簡潔，便于利用大理石基準平臺實施校正操作。設(shè)定一預(yù)設(shè)對比差值，計算涂布模頭兩端實時高度差值，當超出預(yù)設(shè)對比差值時，實施涂布模頭高度向預(yù)設(shè)高度范圍的調(diào)整。

設(shè)置模頭高度調(diào)節(jié)機構(gòu)5，用以調(diào)整涂布模頭1的高度位置；在涂布模頭1或涂布平臺2上設(shè)置距離測量儀，用以測量涂布模頭1與涂布平臺2之間的距離；根據(jù)應(yīng)用環(huán)境設(shè)定一預(yù)設(shè)高度值、一預(yù)設(shè)偏差值；距離測量儀測定涂布模頭1與涂布平臺2的距離；將預(yù)設(shè)高度值與距離進行比較，并根據(jù)預(yù)設(shè)高度值通過模頭高度調(diào)節(jié)機構(gòu)5調(diào)整涂布模頭1的高度；距離測量儀實時測定涂布模頭1與涂布平臺2的距離；根據(jù)預(yù)設(shè)高度值及預(yù)設(shè)偏差值獲得高度值范圍，當實時測定的距離偏移高度值范圍時，實施涂布模頭1高度向預(yù)設(shè)高度范圍的閉環(huán)調(diào)整。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：在涂布過程中，直接利用距離測量儀測定涂布模頭到涂布平面的距離，并通過閉環(huán)控制完成涂布模頭的實時調(diào)整，這樣可以大大減少因為涂布模頭高度位置變化而造成涂布薄膜的影響，以獲得厚度均勻一致的高質(zhì)量薄膜。